基本介紹
标配能譜儀（EDS）和波譜儀（WDS）接口，領先的 X 射線幾何條件對所 有樣品提供了最精确的分析。對于非導體采用電子束襯管技術也提高了圖像質量和分析精度。可選擇 LaB6 高亮度光源，在與 X 射線分析相适應的探針 電流的性能上提高到一個新 的水平。在 8.5 mm 的分析工作距離，EVO® 18 能夠處理的 樣品可達 250 mm 直徑和 145mm 高。此外，共面的設計為 EBSD 與 EDS 的聯合使用提 供了理想的幾何條件。無論何時對于你的材料分析的挑戰，EVO® 18 都能使你的 樣品清晰可見。
● 配備 X 射線能譜儀并具有領先的 X 射線分析幾何條件
● 使用可變壓力工作模式進行 樣品的電荷中和
● 大的樣品台移動範圍
● 電子束襯管用于增強成像與 分析
● 用可選的 LaB6 電子源進行高性能成像
技術參數
成像方案: 導體 非導體 氣體析出樣品
分辨率: 3.0 nm @ 30 kV (SE 與 W)
2.0 nm @ 30 kV (SE 帶有 )
4.5 nm @ 30 kV (VP 模式 - BSD 或 SE)
加速電壓：0.2 - 30 kV
放大倍數: 5 - 1,000,000 x
視野: 6 mm 在分析工作距離(AWD)
X 射線分析: 8.5 mm AWD，35°出射角
OptiBeam®*模式: 分辨率、景深、分析、大視野
壓力範圍: 10 - 400 Pa 用空氣或可選的水蒸汽
可選探測器: ZEISS BSD 用于所有模式- 四象限半導體二極管探測器
VPSE - 可變壓力二次電子探測器
SCD - 樣品電流探測器
樣品室尺寸: 365 mm (Φ) x 255 mm (h)
5 軸電動計算機對中樣品台: X = 125 mm
Y = 125 mm
Z = 50 mm (35 mm 電動)
最大樣品高度 120 mm
T = 0 - 90°
R = 360°(連續)
樣品台由鼠标、操縱杆和控制闆控制
未來保證升級途徑: 電子束襯管
擴展壓力
水蒸汽 VP 氣體
圖像處理: 分辨率可達 3072 x 2304 像素 用疊加和平均方式進行信号采集
圖像顯示: 高對比度彩色平闆 TFT 顯示器用于以 1024 x 768 像素顯示 SEM 圖像
系統控制: 用鼠标和鍵盤操作的 SmartSEM™** GUI多語言簡明的 GUI Windows® XP 操作系統
實用要求: 100 – 230 V, 50 或 60Hz 單相 不需要水冷
OptiBeam®* — 以主動式鏡筒控制實現最高分辨率、最大視野或者最佳景深
SmartSEM™** — 第五代掃描電鏡控制圖形用戶界面
