应用
针对压印光刻工艺实现图章保真复型对阻蚀胶薄膜的均匀度和应力分布的要求,对匀胶过程中的时间、转速和加速度等参数进行了分析,并采用基片曲率法的Stoney公式及其近似计算公式,对不同参数环境下的薄膜应力及应力梯度分布作了计算分析,通过对比几组试验参数的应力分析结果,验证了薄膜应力的大小和应力梯度的分布主要与匀胶时间和速度有关,而与加速度的关系较小。
鉴别方法
1、一次应力为平衡压力与其它机械载荷所必须的法向应力或剪应力。一次应力分为以下三类:1.一次总体薄膜应力是影响范围遍及整个结构的一次薄膜应力(primary membrane stress)。在塑性流动过程之中一次总体薄膜应力不会重新分布,它将直接导致结构破坏。
2.一次局部薄膜应力应力水平大于一次总体薄膜应力,但影响范围仅限于结构局部区域的一次薄膜应力。当结构局部发生塑性流动时,这类应力将重新分布。若不加以限制,则当载荷从结构的某一高应力区传递到另一低应力区时,会产生过量塑性变形而导致破坏。
3.一次弯曲应力平衡压力或其他机械载荷所需的沿截面厚度线性分布的弯曲应力。二次应力为满足外部约束条件或结构自身变形连续要求所须的法向应力或剪应力。二次应力的基本特征是具有自限性,即局部屈服和小量变形就可以使约束条件或变形连续要求得到满足,从而变形不再继续增大。只要不反复加载,二次应力不会导致结构破坏。峰值应力由局部结构不连续或局部热应力影响而引起的附加在一次加二次应力上的应力增量。