概述
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。
工作原理 1.主要部分流入树脂/膜内部，而另一部分沿模板外侧流动，以洗去透出膜外的离子。 2.树脂截留水中的溶存离子。 3.被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动。 4.阳离子透过阳离子膜，排出树脂/膜之外。 5.阴离子透过阴离子膜，排出树脂/膜之外。 6.浓缩了的离子从废水流路中排出。 7.无离子水从树脂/膜内流出。[1]工艺流程 电子工业制备超纯水的工艺大致分成以下3种： 1、采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床（复床）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点 2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床（复床）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点 3、采用反渗透设备与电去离子（EDI）设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子（EDI）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点 工艺比较 目前制备电子工业用超纯水的工艺基本上是以上三种，其余的工艺流程大都是在以上三种基本工艺流程的基础上进行不同组合搭配衍生而来。现将他们的优缺点分别列于下面： 1、第一种采用离子交换树脂其优点在于初投资少，占用的地方少，但缺点就是需要经常进行离子再生，耗费大量酸碱，而且对环境有一定的破坏。 2、第二种采用反渗透作为预处理再配上离子交换设备，其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高，但离子设备再生周期相对要长，耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还是有一定的破坏性。 3、第三种采用反渗透作预处理再配上电去离子（EDI）装置，这是目前制取超纯水最经济，最环保用来制取超纯水的工艺，不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水，对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。设备特点电子工业超纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。应用领域 1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水； 2、超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水； 3、实验室和中试车间用超纯水； 4、汽车、家电表面抛光处理； 5、光电子产品； 6、其他高科技精微产品； 7、食品加工类产品，如盐 8、光伏、血透
EDI超纯水机设备典型特征
EDI超纯水设备具有操作简单、环保、技术先进等特点，代表着未来水处理行业发展方向，在医药、实验室、食品、饮料、化工等行业都有广泛应用，其处理效果也得到用户肯定。EDI纯水研究的面市是水处理行业一次新的尝试，标志着水处理行业最终跨入环保行业的先行者。
性能优势
EDI水处理装置性能优势数不胜数，其能够连续稳定的制备品质优良的超纯水，不会因为树脂再生而停止运行，设备结构设计相对靠紧，所以其占地非常小，可以为企业节省很多空间，超纯水设备在出厂前均需进行装置调试，所以设备故障几率较小，日常保养、维修等操作都非常简单。[2]
参考资料
[1] 2013最新电子工业超纯水设备 · 沈阳水处理设备[引用日期2013-04-19]
[2] 简述EDI超纯水设备性能优势及应用领域[引用日期2015-10-09]
