简介
曝光机是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的设备。
基本概念
曝光机即电子束曝光机是集电子光学、电气、机械、真空、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备。
曝光机/光刻机
曝光机是20世纪60年代初从扫描电子显微镜基础上发展起来，70年代以后广泛应用于半导体集成电路制造业。
基本工作原理
在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物（通常称为电子抗蚀剂或光刻胶）进行曝光，受电子束辐照后的光刻胶，其物理化学性质发生变化，在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域，从而在抗蚀剂上形成精细图形。
常见机型举例
MYCRO韩国制造的紫外曝光系统，适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。MDA-400M系统成功地应用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或复晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术要求。
MDA-400M系统组件：
紫外光源构造
带托盘的晶片工作台
配CCD镜头的显微镜
监视器
掩膜夹具
紫外光源透镜
紫外光源镜片
操作控制器
350W紫外灯
MDA-400M参数：
晶片台
基底尺寸 标准尺寸 最大至4英寸；可选最大至6英寸；
托盘 标准尺寸 最大至4英寸；可选最大至6英寸；
活动范围
X：10mm Y： 10mm Z：10mm Theta：4 degree
对准精度 1um
挤入补偿 Air bearing型
Z轴滑动 手动
真空泵 无油真空泵
掩膜台
掩膜夹具类型 真空吸附和机械夹取
紫外光源
紫外灯 350瓦
均匀光束大小 4.25“ X 4.25“
曝光模式 压缩/真空/相邻
曝光时间控制 可编程控制型
曝光定时器1~ 999.9秒
用途
更广范围（UV，DUV，NUV）的紫外光波长选择，出射光强范围:8mW/cm2~40mW/cm2
支持恒定光强或恒定功率模式
广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领。
常见曝光机举例：MYCRO美国制造的恩科优（N&Q）紫外曝光系统，适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。NXQ400-6系统成功地应用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或复晶设备和其他要求精细印制和精度对准的应用。
