材料要求
材料
抛光粉通常由氧化铈、氧化鋁、氧化矽、氧化鐵、氧化锆、氧化鉻等組份組成，不同的材料的硬度不同，在水中的化學性質也不同，因此使用場合各不相同。氧化鋁和氧化鉻的莫氏硬度為9，氧化铈和氧化锆為7，氧化鐵更低。氧化铈與矽酸鹽玻璃的化學活性較高，硬度也相當，因此廣泛用于玻璃的抛光。
為了增加氧化铈的抛光速度，通常在氧化铈抛光粉加入氟以增加磨削率。铈含量較低的混合稀土抛光粉通常摻有3－8的氟；純氧化铈抛光粉通常不摻氟。
對ZF或F系列的玻璃來說，因為本身硬度較小，而且材料本身的氟含量較高，因此因選用不含氟的抛光粉為好。
基本要求
（1）微粉粒度均勻一緻，在允許的範圍之内；
（2）有較高的純度，不含機械雜質；
（3）有良好的分散性和吸附性，以保證加工過程的均勻和高效，可适量添加分散劑提高懸浮率；
（4）粉末顆粒有一定的晶格形态，破碎時形成銳利的尖角，以提高抛光效率；
（5）有合适的硬度和密度，和水有很好的浸潤性和懸浮性，因為抛光粉需要與水混合。
顆粒度
氧化铈
粒度越大的氧化铈，磨削力越大，越适合于較硬的材料，ZF玻璃應該用偏細的抛光粉。要注意的是，所有的氧化铈的顆粒度都有一個分布問題，平均粒徑或中位徑D50的大小隻決定了抛光速度的快慢，而最大粒徑Dmax決定了抛光精度的高低。因此，要得到高精度要求，必須控制抛光粉的最大顆粒。
抛光粉
抛光粉的真實硬度與材料有關，如氧化铈的硬度就是莫氏硬度7左右，各種氧化铈都差不多。但不同的氧化铈體給人感覺硬度不同，是因為氧化铈抛光粉通常為團聚體，附圖為一個抛光粉團聚體的電鏡照片。由于燒成溫度不同，團聚體的強度也不一樣，因此使用時會有硬度不一樣的感覺。當然，有的抛光粉中加入氧化鋁等較硬的材料，表現出來的磨削率和耐磨性都會提高。
抛光漿料
抛光過程中漿料的濃度決定了抛光速度,濃度越大抛光速度越高。使用小顆粒抛光粉時，漿料濃度因适當調低。
選擇
抛光模應該用軟一點的。應該指出的是，很多聚氨酯抛光片中添加了氧化铈抛光粉。這些抛光粉的最大顆粒度同樣決定了最終的抛光精度。依我之見，最好使用不加抛光粉的抛光模。
影響抛光粉性能的指标
1、粉體的粒度大小：決定了抛光精度和速度，常用多少目和粉體的平均粒度大小來。過篩的篩網目數能掌握粉體相對的粒度的值，平均粒度決定了抛光粉顆粒大小的整體水平。
2、粉體莫氏硬度：硬度相對大的粉體具有較快的切削效果，同時添加一些助磨劑等等也同樣能提高切削效果；不同的應用領域會有很大出入，包括自身加工工藝。
3、粉體懸浮性：好的粉要求抛光粉要有較好的懸浮性，粉體的形狀和粒度大小對懸浮性能具有一定的影響，片形及粒度細些的抛光粉的懸浮性相對的要好一些，但不是決對的。抛光粉懸浮性能的提高也可通過加懸浮液（劑）來改善。
4、粉體的晶型：粉體的晶型是團聚在一起的單晶顆粒，決定了粉體的切削性、耐磨性及流動性。粉體團聚在一起的單晶顆粒在抛光過程中分離（破碎），使其切削性、耐磨性逐漸下降，不規則的六邊形晶型顆粒具有良好的切削性、耐磨性和流動性。
5、外觀顔色：原料中Pr的含量及灼燒溫度等因素有關，镨含量越高，其粉體顯棕紅色。低铈抛光粉中含有大量的镨（铈镨料），使其顯棕紅色。高铈抛光粉，灼燒溫度越高，其顯偏白粉色，溫度低（900度左右），其顯淡黃色。
現狀應用
背景情況
铈基稀土抛光粉是較為重要的稀土産品之一。因其具有切削能力強，抛光時間短、抛光精度高、操作環境清潔等優點，故比其他抛光粉（如Fe2O3紅粉）的使用效果佳，而被人們稱為“抛光粉之王”。該産品在我國發展較快，應用日廣，産量猛增，發展前景看好。
1.1 發展過程
紅粉（氧化鐵）是曆史上最早使用的抛光材料，但它的抛光速度慢，而且 鐵鏽色的污染也無法消除。随着稀土工業的發展，于二十世紀30年代，首先在 歐洲出現了用稀土氧化物作抛光粉來抛光玻璃。在 第二次世界大戰中，一個在 伊利諾斯州 羅克福德的 WF和BarnesJ公司工作的雇員，于1943年提出了一種叫做 巴林士粉（Barnesite）的稀土氧化物抛光粉，這種抛光粉很快在抛光精密光學儀器方面獲得成功。
由于稀土抛光粉具有抛光效率高、質量好、污染小等優點，激起了 美國等國家的群起研究。這樣，稀土抛光粉就以取代傳統抛光粉的趨勢迅速發展起來。
國外于60年前開始生産稀土抛光粉，二十世紀90年代已形成各種标準化、系列化的産品達30多種規格牌号。
國外的稀土抛光粉生産廠家主要有15家（年生産能力為200噸以上者）。其中， 法國羅地亞公司年生産能力為2200多噸。是目前世界上最大的稀土抛光粉生産廠家。美國的抛光粉年産量能力達1500噸以上。 日本生産稀土抛光粉的原料采用氟碳铈礦、粗氯化铈和氯化稀土三種，工藝上各不相同。日本稀土抛光粉的生産在燒結設備和技術上均具特色。1968年，我國在上海躍龍化工廠首次研制成功稀土抛光粉。
随後西北光學儀器廠、 雲南光學儀器廠相繼采用獨居石為原料，研制成功不同類型稀土抛光粉。 北京有色金屬研究總院、 北京工業學院等單位于1976年研制并推廣了739型稀土抛光粉，1977年又研制成功了771型稀土抛光粉。1979年 甘肅稀土公司研制成功了797型稀土抛光粉。
目前國内已有14個稀土抛光粉生産廠家（年生産能力達30噸以上者），最大的一家年生産能力為2220噸。但與國外相比仍有較大差距，主要是稀土抛光粉的産品質量不穩定，未能達到标準化、系列化，還不能完全滿足各種工業領域的抛光要求，因此必須迎頭趕上。
1.2組成分類
1.2.1 以稀土抛光粉中CeO2量來劃分：
稀土抛光粉的主要成分是CeO2，據其CeO2量的高低可将铈抛光粉分為兩大類:一類是CeO2含量高的價高質優的高铈抛光粉，一般CeO2/TREO≥80%，另一類是CeO2含量低的廉價的低铈抛光粉，其铈含量在50%左右，或者低于50%，其餘由La2O3，Nd2O3，Pr6O11組成。
對于高铈抛光粉來講，氧化铈的品位越高，抛光能力越大，使用壽命也增加，特别是硬質玻璃長時間循環抛光時(石英、 光學鏡頭等)，以使用高品位的铈抛光粉為宜。
低铈抛光粉一般含有50%左右的CeO2，其餘50%為La2O3?SO3，Nd2O3?SO3，Pr6O11?SO3等堿性無水硫酸鹽或LaOF、NdOF、PrOF等堿性氟化物，此類抛光粉特點是成本低及初始抛光能力與高铈抛光粉比幾乎沒有兩樣，因而廣泛用于平闆玻璃、顯像管玻璃、眼鏡片等的玻璃抛光，但使用壽命難免要比高铈抛光粉低。
1.2.2以稀土抛光粉的大小及粒度分布來劃分：
稀土抛光粉的粒度及粒度分布對抛光粉性能有重要影響。對于一定組分和加工工藝的抛光粉，平均顆粒尺寸越大，則玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多數情況下，顆粒尺寸約為4μm的抛光粉磨削速度最大。相反地，如果抛光粉顆粒平均粒度較小，則磨削量減少，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，标準抛光粉一般有較窄的粒度分布，太細和太粗的顆粒很少，無大顆粒的抛光粉能抛光出高質量的表面，而細顆粒少的抛光粉能提高磨削速度。
此外，稀土抛光粉也可以根據其添加劑的不同種類來劃分，稀土抛光粉生産技術屬于微粉工程技術，稀土抛光粉屬于超細粉體，國際上一般将超細粉體分3種：納米級(1nm～100nm);亞微米級(100nm～1μm);微米級(1μm～100μm)，據此分類方法，稀土抛光粉可以分為：納米級稀土抛光粉、亞微米級稀土抛光粉及微米級稀土抛光粉3類，通常我們使用的稀土抛光粉一般為微米級，其粒度分布在1μm～10μm之間，稀土抛光粉根據其物理化學性質一般使用在玻璃抛光的最後工序，進行精磨。
因此其粒度分布一般不大于10μm，粒度大于10μm的抛光粉(包括稀土抛光粉)大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級稀土抛光粉，由于在液晶顯示器與電腦 光盤領域的應用逐漸受到重視，産量逐年提高。
納米級稀土抛光粉已經問世，随着現代科學技術的發展，其應用前景不可預測，但市場份額還很小，屬于研發階段。
1.3 生産原料
我國生産铈系稀土抛光粉的原料有下列幾種：
(1)氧化铈(CeO2)，由混合稀土鹽類經分離後所得(w(CeO2)=99%)；
(2)混合稀土氫氧化物(RE(OH)3)，為稀土精礦(w(REO)≥50%)化學處理後的中間原料(w(REO)=65%，w(CeO2)≥48%)；
(3)混合氯化稀土(RECl3)，從混合氯化稀土中萃取分離得到的少铕氯化稀土(主要含La，Ce，Pr和Nd，w(REO)≥45%，w(CeO2)≥50%)；
(4)高品位稀土精礦(w(REO)≥60%，w(CeO2)≥48%)，有内蒙古包頭混合型稀土精礦， 山東 微山和 四川 冕甯的氟碳铈礦精礦。
以上原料中除第1種外，第2，3，4種均含輕稀土(w(REO)≈98%)，且以CeO2為主，w(CeO2)為48%～50%。我國具有豐富的铈資源，據測算，其工業儲量約為1800萬噸（以CeO2計），這為今後我國持續發展稀土抛光粉奠定了堅實的基礎，也是我國獨有的一大優勢，并可促進我國稀土工業繼續高速發展。
1.4 主要生産工藝及設備
1.4.1 高铈系稀土抛光粉的生産
以稀土混合物分離後的氧化铈為原料，以物理化學方法加工成硬度大，粒度均勻、細小，呈 面心立方晶體的粉末産品。其主要工藝過程為：原料→高溫→煅燒→ 水淬→水力分級→過濾→烘幹→高級铈系稀土抛光粉産品。
主要設備有：煅燒爐，水淬槽，分級器，過濾機，烘幹箱。
主要指标：産品中w(REO)=99%，w(CeO2)=99%；稀土回收率約95%；平均粒經1μm～6μm(或粒度為200目～300目)，晶形完好。該産品适用于高速抛光。這種高铈抛光粉最早代替了古典抛光的氧化鐵粉（紅粉）。
1.4.2中铈系稀土抛光粉的制備
用混合稀土氫氧化物(w(REO)=65%，w(CeO2)≥48%)為原料，以化學方法預處理得稀土鹽溶液，加入中間體(沉澱劑)使轉化成w(CeO2)=80%～85%的中級铈系稀土抛光粉産品。其主要工藝過程為：
原料→氧化→優溶→過濾→酸溶→沉澱→洗滌過濾→高溫煅燒→細磨篩分→中級铈系稀土抛光粉産品。
主要設備：氧化槽，優溶槽，酸溶槽，沉澱槽，過濾機，煅燒爐，細磨篩分機及包裝機。
主要指标：産品中w(REO)=90%，w(CeO2)=80%～85%；稀土回收率約95%;平均粒度0.4μm～1.3μm。該産品适用于高速抛光，比高級铈稀土抛光粉進行高速抛光的性能更為優良。
1.4.3 低铈系稀土抛光粉的制備
以少铕氯化稀土(w(REO)≥45%，w(CeO2)≥48%)為原料，以合成中間體(沉澱劑)進行複鹽沉澱等處理，可制備低級铈系稀土抛光粉産品。其主要工藝過程為：
原料→溶解→複鹽沉澱→過濾洗滌→高溫煅燒→粉碎→細磨篩分→低級铈系稀土抛光粉産品。
主要設備：溶解槽，沉澱槽，過濾機，煅燒爐，粉碎機，細磨篩分機。
主要指标：産品中w(REO)=85%～90%，w(CeO2)=48%～50%；稀土回收率約95%；平均粒徑0.5μm～1.5μm(或粒度320目～400目)。該産品适合于光學玻璃等的高速抛光之用。
用混合型的氟碳铈礦高品位稀土精礦(w(REO)≥60%，w(CeO2)≥48%)為原料，直接用化學和物理的方法加工處理，如磨細、煅燒及篩分等可直接生産低級铈系稀土抛光粉産品。
其主要工藝過程為：
原料→幹法細磨→配料→混粉→焙燒→磨細篩分→低級铈系稀土抛光粉産品。
主要設備：球磨機，混料機，焙燒爐，篩分機等。主要指标:産品中w(REO)≥95%，w(CeO2)≥50%；稀土回收率≥95%;産品粒度為1.5μm～2.5μm。該産品适合于眼鏡片、電視機顯像管的高速抛光之用。
國内生産的低級铈系稀土抛光粉的量最多，約占總産量的90%以上。
1.5 應用
由于铈系稀土抛光粉具有較優的化學與物理性能，所以在工業制品抛光中獲得了廣泛的應用，如已在各種光學玻璃器件、電視機顯像管、光學眼鏡片、示波管、平闆玻璃、半導體晶片和金屬精密制品等的抛光。
1.6 市場
在稀土抛光粉的消費中，日本是最大的消費者，每年約生産3550噸～4000噸抛光粉，産值35億～40億日元，還從法國、美國和 中國進口部分抛光粉。其中最大的抛光粉消費市場是彩電陰極射線管。二十世紀90年代中期，日本陰極射線管的生産轉向海外，平面顯示産品産量迅速增加，對铈基抛光粉的需求量也迅速增加。
日本在液晶顯示用平面顯示器生産上消費的抛光粉約占其市場的50%。90年代以來，日本将其陰極射線管用抛光粉的生産技術、設備向海外轉移，如:日本清美化學從1989年開始,在海外生産陰極射線管用铈基抛光粉。1989年在 台灣建立了一家獨資企業，1990年投入生産，生産能力每年1000噸。1997年又與我國包頭鋼鐵公司合資在包頭建立了一家專門生産彩電陰極射線管、電子管和平闆玻璃抛光用抛光粉的企業。
設計能力為每年1200噸，所用原料為高品位氟碳铈礦和富铈碳酸稀土。因此，新日本金屬化學公司的陰極射線管用抛光粉因受來自 中國大陸和台灣大量低價抛光粉的沖擊也有意從事用于液晶顯示用高性能抛光粉的生産。東北金屬化學公司計劃從事光學鏡頭和液晶顯示屏用抛光粉的生産。
高铈系稀土抛光粉，主要适用于精密光學鏡頭的高速抛光。實踐表明，該抛光粉的性能優良，抛光效果較好，由于價格較高，國内的使用量較少。
中铈系稀土抛光粉，主要适用于光學儀器的中等精度中小球面鏡頭的高速抛光。該抛光粉與高铈粉比較，可使抛光粉的液體濃度降低11%，抛光速率提高35%，制品的光潔度可提高一級，抛光粉的使用壽命可提高30%。目前國内使用這種抛光粉的用量尚少，有待于今後繼續開發新用途。
低铈系稀土抛光粉，如771型适用于光學眼鏡片及金屬制品的高速抛光;797型和C－1型适用于電視機顯像管、眼鏡片和平闆玻璃等的抛光；H－500型和877型适用于電視機顯像管的抛光。此外，其它抛光粉用于對光學儀器，攝像機和照相機鏡頭等的抛光，這類抛光粉國内用量最多，約占國内總用量85%以上。
1.7、結束語
我國的稀土抛光粉行業從無到有，從小到大，已走過了近50年的曆史。目前我國在生産、應用、市場和技術設備等方面已取得很大的成就和發展，在世界同行業中已占主導地位，并成為世界稀土抛光粉的生産和供應大國。今後要加快技術設備的創新，提高生産水平。要加速産品标準化和系列化的進程，要增加新品種，提高産品質量，努力提高産品出口量，占領國際市場。
加工生産
從1940年開始，高氧化铈含量的稀土抛光粉開始取代氧化鐵（即鐵紅）用于玻璃抛光，成為玻璃抛光加工過程中的關鍵工藝材料之一。與傳統抛光粉—鐵紅粉相比，稀土抛光粉具有抛光速度快、光潔度高和使用壽命長的優點，而且能改變抛光質量和操作環境。例如用氧化铈抛光粉抛光透鏡，一分鐘完成的工作量，如用氧化鐵抛光粉則需要30～60分鐘。
稀土抛光粉因其獨特的化學機械作用原理而帶來的高抛光效率，成為玻璃抛光材料的首選，被廣泛用于鏡片、光學元件（透鏡、棱鏡）、彩電玻殼、平闆顯示器用電子玻璃、矽片、磁盤玻璃基片等産品的抛光加工。
根據铈含量的不同，稀土抛光粉可分為高铈（>90%）、富铈（>70%)和低铈（<70%）三種。根據其應用領域的不同，稀土抛光粉産品可分為微米級、亞微米級、納米級三類。
作用機理
對氧化铈抛光機理的解釋主要有以下幾種學說：
（1)化學學說，即抛光過程是水、抛光劑、抛光模材料和玻璃之間化學作用的結果；
(2)純機械作用學說，即抛光是研磨過程的繼續；
(3)流變作用學說，即摩檫熱使玻璃表面産生塑性變形和流動，或者是熱軟化以緻熔融而産生流動，抛光過程是玻璃表面分子重新分布而形成平整表面的過程；
(4)機械、物理化學學說，即抛光過程是一機械的、物理化學作用的綜合過程；許多專家認為，抛光是一機械的、物理化學的、化學的綜合，其中機械作用是基本的，化學作用是重要的，而流變現象是存在的。氧化铈是極有效的抛光用化合物，因為它能用化學分解和機械摩擦二種形式同時抛光玻璃
。在抛光過程中，氧化铈抛光粉有兩種作用，即機械作用與膠體化學作用，這兩種作用是同時出現的。抛光的初始階段，是CeO2去除表面凹凸層的過程，因而呈現出新的抛光面，這時機械作用是主要的。
同時，由于抛光混合物中有水，在抛光過程中形成H3O+ 離子，在玻璃表面H3O+離子與Na+離子相互交換而與玻璃形成水解化合物；同時由于CeO2抛光劑具有多價的性質，Ce（III）/Ce（IV）的 氧化還原反應會破壞矽酸鹽晶格，并通過化學吸附作用，使玻璃表面與抛光劑接觸的物質（包括玻璃及水解化合物）被氧化或形成（…Ce-O-Si…）絡合物而被除去。
加工因素
有以下三個方面：
原料選用：
生産抛光粉的原料按含铈量分為三種：高铈抛光粉用硝酸铈或氯化铈生産，硝酸铈生産的抛光粉顆粒性能更好；富铈抛光粉采用镧铈氯化物生産，所得抛光粉為白色；低铈抛光粉采用混合碳酸稀土或氟碳铈礦生産，顔色為棕紅色。
沉澱方式：
沉澱過程決定了抛光粉晶粒的大小和形狀，最終影響稀土抛光粉的抛光速度、耐磨性、流動性等應用性能。可采用草酸和碳酸氫铵兩種沉澱劑生産抛光粉，草酸鹽得到的抛光粉具有單晶結構，粉體具有良好的流動性，易于沉降，便用水力方法進行分級；碳酸鹽得到的抛光粉呈片狀團聚體結構，懸浮性較好，但耐磨性、流動性不如草酸鹽生産的抛光粉，但因生産成本較低而得到廣泛采用。
分級方式：
抛光粉在應用前均需進行分級，一般有水力沉降、濕式篩分、幹式篩分、水力懸流分級、氣流分級等方式。草酸鹽生産的抛光粉一般采用濕式篩分或水力懸流分級；碳酸鹽制得的抛光粉大多采用氣流分級方式實現。
性能指标
顆粒大小：決定了抛光精度和速度，一般用目數和平均顆粒大小來表征。過篩目數反映了最大顆粒的大小，平均粒度決定了抛光粉顆粒大小的整體水平。
硬度：硬度大的顆粒具有較快的切削率，加入助磨劑也可以提高切削率。
懸浮性：高速抛光要求抛光粉具有較好的懸浮性，顆粒形狀和大小對懸浮性有較大影響，片狀的抛光粉以及小顆粒的抛光粉的懸浮性較好。懸浮性的提高也可以通過加入懸浮劑來實現。
顆粒結構：顆粒結構是團聚體顆粒還是單晶顆粒決定了抛光粉的耐磨性和流動性。團聚體顆粒在抛光過程中會破碎，從而導緻耐磨性下降，單晶顆粒具有好的耐磨性和流動性。
顔色：與原料中的镨含量和溫度有關，镨含量越高，抛光粉越顯棕紅色。低铈抛光粉中含有大量的镨，因而顯棕紅色。對純氧化铈抛光粉，焙燒溫度高，抛光粉的顔色偏 白紅，溫度低，顔色偏淺黃。
全球的稀土抛光粉生産總量約為2萬噸，生産廠家主要有四種類型：光學輔料公司、磨料磨具公司、稀土冶金公司、化工材料公司。其中，光學輔料公司的生産量最小，在2000噸以下，磨料磨具行業最大，在7000噸左右，稀土行業和化工行業各生産5000噸。我國的稀土抛光粉的生産量和應用量大抵相等，每年生産 1萬噸左右，其中國内自用8000噸，出口2000噸。
抛光作用
稀土抛光粉具有抛光速度快、光潔度高和使用壽命長的優點，與傳統抛光粉—鐵紅粉相比，不污染環境，易于從沾着物上除去等優點。用氧化铈抛光粉抛光透鏡，一分鐘完成的工作量，如用氧化鐵抛光粉則需要30～60分鐘。所以，稀土抛光粉具有用量少、抛光速度快以及抛光效率高的優點。而且能改變抛光質量和操作環境。一般稀土 玻璃抛光粉主要用富铈氧化物。氧化铈之所以是極有效的抛光用化合物，是因為它能用化學分解和機械摩擦二種形式同時抛光玻璃。
稀土铈抛光粉廣泛用于照相機、攝影機鏡頭、電視顯像管、眼鏡片等的抛光。目前我國有稀土抛光粉廠幾十家，生産規模上百噸的十餘家。中外合資包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司是我國目前最大的稀土抛光粉廠之一，年生産能力1200噸，産品銷往國内外。
在稀土抛光粉的消費中，日本是最大的消費者，每年約生産3550～4000噸抛光粉，産值35~40億日元，還從 法國、 美國和中國進口部分抛光粉，其中最大的抛光粉消費市場是彩電陰極射線管。
90年代中期，日本陰極射線管的生産轉向海外，而平面顯示産品産量迅速增加，對铈基抛光粉的需求量也迅速增加，估計日本在液晶顯示用平面顯示器生産上消費的抛光粉約占其市場的50%。
90年代以來，日本将其陰極射線管用抛光粉的生産技術和設備向海外轉移，如：日本清美化學從1989年開始在海外生産陰極射線管用铈基抛光粉，1989年在台灣建立了一家獨資企業，1990年投入生産，生産能力為每年1000噸，1997年又與我國包頭鋼鐵公司合資在 包頭建立了一家專門生産彩電陰極射線管、電子管和平闆玻璃抛光粉的企業，設計能力為每年1200噸，所用 原料為高品位氟碳铈礦和富铈碳酸稀土，因此，新日本金屬化學公司的陰極射線管用抛光粉因受來自中國大陸和台灣大量低價抛光粉的沖擊，也有意從事用于液晶顯示用高性能抛光粉的生産。
東北金屬化學公司計劃專門從事光學鏡頭和液晶顯示屏用抛光粉的生産，據悉，昭和電工計劃投資5億日元擴大其铈基抛光粉的生産能力，以滿足電器設備和半導體裝置等市場的需求，其獨資公司東北金屬化工公司将投資2.5億日元以擴大铈基研磨劑的生産能力，其産品牌号為ROX，用于PC的液晶顯示屏和硬盤的玻璃基體抛光，可望使其月産量達200噸，成為 日本同行中的大戶，其銷售目标是2002年達20億日元，昭和電工還将 長野縣投資2.5億日元建一新廠，生産用于半導體的化學機械抛光粉，産品牌号為GPL，月産能力為200噸，2002年的銷售額将達30億日元。
再生
失效稀土抛光粉的再生方法在當今資源缺乏的社會就顯得尤為重要。失效稀土抛光粉的再生是一種對廢舊資源進行再利用的處理方法，是對失效稀土抛光粉的物理化學處理，使其得以重新利用的方法。
據悉，抛光粉回收率通常可達70-80%，抛蝕量一般可接近或達到50以上，可以繼續用于玻璃制品的抛光。
該技術方案中主要包含有以下步驟：
①在失效稀土抛光粉漿液中，加入一定濃度的水溶性堿和/或水溶性氟化物進行化學處理，經過一定時間的加熱攪拌後，通過沉降、清洗和過濾工序，回收固體;
②将回收的固體進一步熱處理後冷卻到室溫，球磨。回收的稀土抛光粉中，大部分玻璃粉末和其它雜質被有效清除，其物理化學特性得到改善。
抛光粉廢料中回收稀土氧化物的方法
(1)使用自行設計的灼燒窯爐，對廢料進行灼燒。(2)使用H2SO4、冰醋酸、助溶劑混合液溶解稀土廢料，濾渣返回溶料，繼續溶解；濾液進入多級萃取槽進行稀土萃取分離。(3)模糊萃取分離提純技術萃取分離單一稀土氧化物。(4)在分離後所得SmEuGd稀土氯化物溶液中加入鋅粉進行還原、萃取提純，生産熒光級氧化铕。(5)采用無氨皂化，達到廢水無氨、氮排放。對廢水進行回收，用于配制無氨皂化液。本發明實現了對稀土熒光粉、抛光粉廢料的低成本、無污染綠色 。
種類
抛光粉除了上文提到的稀土抛光粉，還有金剛石抛光粉（包括多晶金剛石微粉、單晶金剛石微粉、納米金剛石微粉）、氧化鋁系列微粉、氧化铈系列微粉、鍍衣金剛石微粉等系列。
多晶金剛石微粉
以爆炸法合成，其顆粒晶體結構與天然的Carbonado極為相似，通過不飽和鍵結合成多晶體結構。與單晶金剛石相比，多晶金剛石有更多的晶棱和磨削面，每條晶棱都具有切削能力，因此有很高的去除率。多晶金剛石具有韌性和自銳性，在抛光過程中，粗顆粒會破碎成更小的顆粒，可避免對工件表面造成劃傷，既保證了工件表面質量，又提高了研磨切削效率，在某些高質量要求的産品加工過程中顯示出它獨特的優越性。
主要應用于：藍寶石襯底、光學晶體及硬盤磁頭等的研磨和抛光。
單晶金剛石微粉
是采用優質金剛石為原料，經過球磨、分級和淨化處理等嚴格工藝處理而成，所有的産品都符合超純技術指标。
主要用于①工業上、科學上和醫學上各種精密元器件的精磨或抛光加工;
②用于樹脂粘結工具、金屬粘結工具以及電鍍工具的制造;
③作為精細磨料用于模具加工、寶玉石抛光加工、寶石軸承加工制造。
④用作功能材料，例如：利用其熱學性質和電學性質。
納米金剛石微粉
納米金剛石微粉是高能炸藥在負氧條件下爆轟合成而制得的，在爆轟瞬間産生合成金剛石所必需的超高壓和高溫
條件，同時炸藥産生的遊離碳原子就形成了納米級的金剛石顆粒。納米金剛石不同于通常的靜壓合成金剛石，沒有棱角呈球形、單晶粒尺寸隻有幾個納米。
主要應用于以下幾個方面：
1. 作為超精密抛光和研磨材料，用于磁頭、硬盤、寶石、硬質玻璃、陶瓷以及硬質合金的超精密抛光；
2. 用作潤滑劑或者機油的添加劑，能夠大大改善工業機械和車輛的運轉性能，減少故障，延長使用壽命。
3. 金屬模具、工具、部件等的鍍膜，能夠提高耐磨性、表面硬度、延長使用壽命。
4. 橡膠或者塑料的增強劑、散熱劑。
鍍衣金剛石微粉
鍍衣金剛石是利用先進的化學鍍和複合鍍工藝，通過表面處理使金剛石表面鍍複上一層金屬，進而增加金剛石在切削、打磨工具中的附着力，延長工具使用壽命。
主要應用于各種金剛石制品：
1、機加工領域裡的車刀、锉刀、鋸片、鑽頭等等；
2、電氣電子工業中石墨、碳精材料的切割、成型；
3、增強塑料、矽片、玻璃的切割打磨工具；
4、用于各種寶石、碧玉、陶瓷等工藝美術品雕琢磨花的電鍍金剛石磨頭等。
氧化鋁微粉
高純超精細a-氧化鋁粉體，粉體一次粒徑為20—40納米，二次粒徑尺寸可以根據客戶要求量身訂做。該産品具有良好的微粒形狀，純度高、粒度分布均勻等方面優點。
應用于：
1．熒光粉、高壓鈉燈管、催化劑載體、納米電鍍業、透明燒結體、精密抛光生物陶瓷、電子陶瓷、精細研磨抛光等領域。
2．大尺寸藍寶石單晶、激光晶體、光纖接口等光學晶體等領域。
氧化铈微粉
采用産于内蒙古自治區的稀土精礦生産抛光粉為原料，經過粉碎、分級和淨化處理這些嚴格的工藝處理而得到的精細抛光粉，所有的産品都符合超純技術指标。
廣泛用于鏡頭、電視顯像管、眼鏡片、人工晶體、寶石、光學元件、光纖、藝術玻璃、電子玻璃、平闆玻璃等的抛光
行業概況
供求關系是一個行業能否快速發展的前提。目前來看，市場需求是很大的，而供應方面卻略顯不足，尤其是擁有核心知識産權，産品質量過硬的企業并不多，行業整體缺乏品牌效應。在需求旺盛的階段，行業需求巨大，發展前景好，這是毋庸置疑的。但如何保持行業的健康，穩定且可持續發展， 抛麗斯認為，需要業内企業的共同努力，尤其需要發揮吃毛求疵的研發精神，進一步提高生産工藝，降低成本，真正解決客戶的實際困難，嚴把質量關，提供最可靠的産品。
